Hellma-Materials的半成品產(chǎn)品涵蓋微光刻、光學(xué)、激光技術(shù)和輻射探測等領(lǐng)域，而IVIROptics的鍺和硅則用于紅外光學(xué)（IR光學(xué)），特別是用于制造熱成像相機(jī)、夜視設(shè)備和光譜系統(tǒng)的鏡頭和窗戶。

　　鍺因其在紅外光譜范圍（2至14微米）的高透射率，非常適合這些應(yīng)用。硅因其良好的機(jī)械性能和高折射率，常用于紅外光學(xué)中的透鏡和鏡面。這兩種材料都有各種形狀和尺寸，以滿足不同應(yīng)用的需求。

　　高純度的合成晶體——德國制造：我們種植純度的人造晶體，適用于光學(xué)、半導(dǎo)體、輻射檢測和安全行業(yè)的應(yīng)用。我們在熔體受控結(jié)晶方面的專業(yè)知識保證產(chǎn)品質(zhì)量高。

　　Hellma（德國）的光學(xué)材料核心由旗下Hellma-Materials（晶體/玻璃）與HellmaAnalytics（分析用石英/玻璃）兩大板塊構(gòu)成，以高純度合成晶體、特種玻璃、石英為主，覆蓋紫外到紅外全波段，廣泛用于光刻、激光、光譜、醫(yī)療等領(lǐng)域。

　　Hellma光學(xué)材料以氟化鈣（CaF?）晶體為代表，憑借跨紫外-可見-紅外波段的高寬帶透射率、低折射率、低光譜色散、出色的激光耐久性和抗輻照能力，成為精密光學(xué)、半導(dǎo)體制造、天文觀測、激光技術(shù)及科研醫(yī)療等領(lǐng)域的核心材料。

　　氟化鎂（MgF2HellmaMaterials的一種經(jīng)過驗證的光學(xué)材料

　　寬頻傳輸：在紫外、可見性和紅外頻段的透射率。

　　低色散：大限度地減少色差。

　　對電離輻射的高抵抗：可用于太空。

　　低非線性折射率：非常適合高功率激光應(yīng)用。

　　對多種化學(xué)蝕刻劑具有抗性，適合高要求的應(yīng)用。

　　核心性能優(yōu)勢

　　寬透射波段

　　覆蓋深紫外（130nm）至紅外（8μm，部分資料顯示可達(dá)9μm甚至10μm），滿足真空紫外（VUV）、深紫外（DUV）、可見光及紅外（IR）等多波段需求。

　　應(yīng)用場景：半導(dǎo)體光刻（193nm、248nm）、紫外顯微鏡、紅外傳感器、熱像儀鏡頭等。

　　低折射率與低色散

　　折射率（nd）為1.43384，阿貝數(shù)（vd）達(dá)95.23，顯著減少色差，提升成像質(zhì)量。

　　應(yīng)用場景：天文望遠(yuǎn)鏡、高清變焦鏡頭、顯微鏡等色校正光學(xué)系統(tǒng)。

　　激光耐久性

　　對157nm、193nm、248nm等準(zhǔn)分子激光波長具有優(yōu)異耐受性，適用于光刻激光光學(xué)器件和光束傳輸系統(tǒng)，延長組件壽命。

　　業(yè)務(wù)架構(gòu)：Hellma旗下Hellma-Materials專注晶體/光學(xué)材料定制，HellmaAnalytics聚焦分析用石英/玻璃組件，另有系統(tǒng)集成與分銷業(yè)務(wù)。

　　技術(shù)亮點：德國耶拿自有晶體生長產(chǎn)線，可定制大尺寸單晶（如CaF?直徑440mm），嚴(yán)控折射率均勻性與應(yīng)力雙折射；石英/玻璃組件支持高精度拋光、鍍膜與尺寸公差（±0.01mm）。

　　認(rèn)證與合規(guī)：符合ISO9001、ISO50001，材料適配SEMI、RoHS、REACH，部分產(chǎn)品通過FDA/USPClassVI醫(yī)療級認(rèn)證

　　應(yīng)用場景：高功率激光窗口、透鏡、工業(yè)激光加工等。

　　抗輻照與環(huán)境適應(yīng)性

　　抵抗高能粒子輻射，機(jī)械強(qiáng)度高且抗潮解，大氣下使用溫度達(dá)600℃，真空干燥時可達(dá)800℃。

　　應(yīng)用場景：航空航天、核能設(shè)備、深海探測等環(huán)境。

　　質(zhì)量控制與認(rèn)證

　　產(chǎn)品通過ISO9001/14001質(zhì)量管理體系認(rèn)證及DAkkS認(rèn)證，符合DINENISO/IEC17025標(biāo)準(zhǔn)要求。

　　每一批次產(chǎn)品均經(jīng)過嚴(yán)格的光學(xué)性能、機(jī)械性能及環(huán)境穩(wěn)定性檢測，確保交付品質(zhì)的一致性與可靠性。